盛久隆科技有限公司
Sheng Jiu Long Technology Co., Ltd
- 作者:曹生
- 发布日期:2026年08月14日
- 来源:盛久隆科技有限公司
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GPL-1900 分体式微量氧分析仪在特气行业的用处
一、核心结构优势
1、传感器探头体积小巧,可直接安装在特气柜 GC、阀门箱 VMB、管束架、管路取样口等狭窄密闭空间;
2、显示控制主机布置在洁净通道 / 操作面,避免人员频繁进入特气危险隔间;
3、传感器与主机长线分离安装,减少主机受工艺废气、温湿度波动影响;
4、更换传感器无需拆卸整套控制柜,运维不打断供气,适配半导体连续生产;
5、气路采用 1/8” 卡套接头,匹配电子特气高纯 EP 管路标准,降低渗漏风险。
二、在特气厂、半导体终端特气系统具体用途
特气行业分为两大场景:①特气生产充装工厂 ②晶圆厂 / 光伏厂终端特气供气系统
场景 1:特气生产企业(高纯 N2/Ar/He、电子混合气、掺杂气纯化与充装)
1.纯化装置出口在线监测(品质管控)
高纯惰性气体、氢氦混合气纯化塔后端安装 GPL-1900,持续监控微量氧杂质;氧含量突升代表吸附纯化剂失效,及时再生 / 更换填料,保证 5N/6N 高纯气出厂指标。
2.气瓶充装管路监测
充装总管、充气排取样点位监控;防止充装管道法兰、阀门微漏渗入空气,避免成品气瓶氧杂质超标造成客户拒收。
3.储罐 / 长管拖车置换验证
槽车、储罐检修完成氮气吹扫置换,在线监测氧含量,达标后方可进气、充装特气。
4.成品气体出厂质量佐证
在线数据接入 DCS,作为产品质检数据存档,满足半导体客户来料检测规范。
场景 2:半导体 / 光伏工厂终端特气输送系统(最主流应用)
(1)高纯保护气管网(N2、Ar、He)
从空分站→特气总管→特气柜→设备端全链路微量氧监控:
微量氧一旦进入刻蚀、薄膜沉积、退火工艺,造成晶圆表面氧化、器件缺陷、良率暴跌。
监测点位:空分出口、楼层支管、特气柜出气口、机台前端取样点。
(2)特气柜 GC / 阀门分配箱 VMB(GPL-1900 核心安装点位)
硅烷、氨气、三氟化氮、各类氟基刻蚀气配套吹扫氮气监控:
气瓶切换、柜体自动氮气吹扫流程中,监测吹扫后氧浓度;
半导体 / 光伏、燃料电池高纯氢:氧气造成电堆、硅材料氧化报废;
判断吹扫是否合格,防止空气残留在管路,与易燃易爆特气混合形成爆炸风险。
(3)机台前端工艺用气监测
扩散炉、LPCVD、PVD、离子注入设备进气保护气监测,作为工艺前置预警。
(4)手套箱气氛监测
化合物半导体、第三代半导体 SiC/GaN 样品处理手套箱,箱体惰性气氛连续测氧;分体探头可以安装在箱体内部,主机外置方便操作人员观察。
三、两大核心目标:产品良率保障 + 安全生产
1、工艺品质目的
电子特气对氧杂质极其敏感:
惰性保护气中 O2 → 硅片、外延层高温氧化,产生缺陷;
硅烷、磷烷等前驱体遇氧易提前反应,生成固体颗粒污染腔体;
GPL-1900 实时捕捉微量氧上升,提前切断不合格气源。
2、安全管控目的
1)管路负压、接头微漏吸入空气,氧与可燃特气(SiH4、PH3、H2)达到爆炸极限
2)气瓶更换、管道维护后吹扫不彻底残留空气;
氧浓度超标触发继电器报警,联动特气柜紧急切断阀、加大氮气吹扫。
四、特气行业典型推荐量程
高端半导体高纯工艺气:GPL-1900-L 0~1000ppb / 0~10 ppm
吹扫氮气、厂区普通保护气:0~10 ppm / 0~100 ppm
五、总结
GPL-1900 分体式微量氧分析仪凭借探头与主机分离安装的结构优势,广泛应用于电子特气生产充装车间、半导体厂区特气柜、阀门分配箱、高纯气体输送管网与手套箱系统;在线持续监测高纯氮气、氩气、氦气及工艺混合气中的微量氧气。用于监控气体纯化效果、气瓶充装质量、管路氮气置换结果,及时发现系统泄漏;一方面避免微量氧造成晶圆工艺缺陷、保障产品良率,另一方面预警可燃特气与空气混合风险,实现工艺监控与安全联锁,适配洁净厂房狭小设备隔间的安装与运维需求。
GPL-1900分体式微量氧分析仪 (北京盛久隆科技有限公司)
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